炉CVD

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  炉CVDにおけるイノベーション

  それ以来、炉CVD技術は熱効率が高く安全な製造プロセスへと改良されてきました。その1つがレーザーアシストCVDで、レーザーを使用してプロセスをより適切に制御できるようになりました。 実験炉 特許出願中の技術により、優れた性能とコーティング品質を確保しながらエネルギーを節約します。

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  炉CVDの安全性

  いかなる産業においても、安全性は最も重要であり、炉CVDも例外ではありません。安全な高圧チャンバーは、漏れや爆発のない方法で炉CVDが実行されるように設計されています。南京チシュン 実験炉 また、環境への影響を軽減するために密閉されたチャンバー内で行われ、有害な副産物がなく非侵入的です。

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  炉CVDの使い方

  炉CVDは、表面を均一に覆うために一連の手順を踏むことを意味します。 実験室用炉 プロセスには、表面の洗浄、準備、そして最後にコーティングのために炉室への投入が含まれます。高品質のコーティングは、専門家によって完成されます。

南京千順炉CVDを選ぶ理由は何ですか?

• アプリケーションの広い範囲

  当社の製品は、地質学、鉱業、冶金学で使用される炉、CVD、電子機器、建築材料、セラミックス、化学産業、軽工業、化学産業、医薬品、化粧品、環境保護です。

• 強力な技術サポート

  当社は、研究、生産、販売、サービスを統合した炉CVD製造会社です。国土計画トーチの主要ハイテク企業の1つであるCHISHUNは、優秀な人材を擁し、多くの特許を保有しています。また、NJU、NUST、HHUの地元の教師とも取引しています。

• 高品質な製品

  当社の製品は、炉CVDであり、高効率で静音です。科学研究​​機関や企業の研究室で粒子サンプル（実験ごとに4サンプル）を捕獲するのに最適です。

• 厳格な品質管理

  当社は、炉CVDを提供することに専念しています。団結したチームの各メンバーは誠実に任務を遂行し、完了するすべての作業に責任を負っています。当社の努力と専門知識が、お客様により良い仕事をもたらすことを心から願っています。

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