CSDX1001Vakuum Purification Glove Box, China CSDX1001Vakuum Purification Glove Box Hiersteller, Fournisseuren, Factory -Nanjing Chishun Technology Development Co.,Ltd.

CSDX1001 Vakuum Purification Handschuesch Box

description:

An Experimenter vu chemesche Reaktiounen a Probebehandlungen sinn e puer Substanzen sou empfindlech op Waasser a Sauerstoff datt se net an atmosphäreschen Ëmfeld veraarbecht kënne ginn. Dofir, kreesfërmeg Offäll Këscht sinn erfonnt der sensibel Substanzen ze erméiglechen an Inertgas Ëmfeld ouni Waasser a Sauerstoff ze reagéieren. D'Këscht ass wäit benotzt a Lithium-Ionbatterien a Materialien, Halbleiteren, Filmpräparatioun, Nanomaterialien, Katalysatoren, Superkondensatoren, speziell Luuchten, Laser Schweißen, Schlässer, Titanlegierungsschweißen, asw.

Verschidde Nimm:

① Reinigungszyklus Regeneratiounssystem

② Vakuum Handschuesch Box

③ Super Reinigungshandschueschkëscht

④ Automatesch Botzhandschueschbox

Kompetitiv Virdeel:

1) Fabréck direkt Liwwerung

2) Qualitéitssécherung

3) Beschte Präis

4) Kompakt an der Gréisst

5) Komplett Spezifikatioune

6) Service Assurance

definéiert:

1.HANDSCHOEN Këscht
Dimensioun ：	L1220 x B780 x H900 mm
Material ：	SUS 304, deck 3 mm
Handschuesch Ouverture:	φ220mm ， Hard Aluminiumlegierungsmaterial, no Anti-Korrosiounsbehandlung
Handschuesch:	PIERCAN gemaach an USA; Handschuesch mat engem Duerchmiesser vun 8 Zoll an enger Dicke vun 0.4 mm sinn aus Butylgummimaterial
Fënster:	① De geneigt Design vun der Operatiounsfläch ass aus 10mm Sécherheetstemperéierten Glas gemaach, an d'Frontfenster ass mat engem speziellen personaliséierten ultra staarken Dichtungsring gepecht, an eng Frontdieröffnungsstruktur adoptéiert ② Kann e gewësse positiven an negativen Drock (-12mbar bis 12mbar) wärend der Benotzung erhalen ③ D'Këscht ass mat energiespuerend Beliichtung an antireflektiv Materialien ausgestatt, déi mëll Liicht ubidden a visuell Middegkeet verhënneren ④ Ee poröse Stroumversuergungsklemmbrett ass virinstalléiert an der Këscht (Energieversuergung: 220V ± 10% 50Hz ± 10%) ⑤ Setzt 5 Standard KF-40 Interfaces op der Récksäit vun der Këscht op fir einfach Zougang zu Flëssegkeeten, Gasen, Signaler, etc. ⑥ Et ginn zwou Schichten vu Späicherplacke bannent der Këscht, déi d'Funktioun hunn d'Héicht erop an erof unzepassen
Ënnerstëtzung	Inklusiv Rollen, mat enger Héicht vun 914mm. Castors hu Funktiounen wéi nivelleren, bewegt, a fixéieren
Leckagequote:	Stonn Leckage Taux vun versiegelt Këscht mat kontrolléierter Inert Atmosphär ≤ 5X Maximum Leckage Standard ≤ 0.05vol%/h
2. Iwwergank Chamber
1) Haaptkammer
Ausgesinn:	Zylindresch (304 Edelstol), verbonne mat der Handschueschkëscht, mat manueller an automatescher Loftversuergungssteuerung
Dimensioun ：	φ360mm * 600mm Riets Säit Operatioun, benotzt Gas Fréijoer Dier Ouverture Method, mat Schieber Schacht am Iwwergangsraum
Schacht:	230 mm * 595 mm Kann fräi lénks a riets beweegen, mat enger Verlängerungsdéift vun 361 mm
Vakuum Grad:	≤-0.1MPa Vakuum Drock gaugeWika gemaach an Däitsch
2) Kleng Chamber
Ausgesinn:	Zylindresch (304 Edelstol), verbonne mat Handschueschkëscht, kontrolléiert duerch manuell Ventil
Dimensioun ：	φ155mm * 320mm, Eenzel Ëffnungshandtak dréckt
Vakuum Grad:	≤-0.1MPa
3.Kontrollsystem
Method:	Inklusiv Self Diagnos, Power-Off a Self Start Charakteristiken, mat Drock Kontroll an adaptiven Funktiounen.Automatesch Kontroll, Zyklus Kontroll, Passwuert Schutz, a Vakuum Chamber Kontroll sinn op LCD ugewisen.D'Kontroll Eenheet adoptéiert en däitsche SIEMENS Touchscreen, an d'Operatioun Menü kann op Chinesesch ausgewielt ginn / Englesch
Drock Kontroll:	Kontrolléiert den Drock vun der Këscht an der Iwwergangskammer bei engem bestëmmte Set-Wäert
Fousspedal:	Kann den Drock vun der Handschueschkëscht kontrolléieren an d'Operatioun erliichteren
4. Offäll System
Purification Fäegkeet:	O2, H2O < 1 ppm
Upassung Apparat:	Touch Upassung duerch PLC (Heizung, Evakuéierung, Reinigung, Regeneratioun) Kee Besoin fir mënschlech Iwwerwaachung am ganze Prozess
Aarbechtsgas:	N2 oder Ar (Gas Circulatioun)
Zirkuléierend Fan:	Däitsch Elektror importéiert Héichgeschwindeg Variabel Frequenz Fan, Flowrate 0-80m3 / h Mikroprozessor Kontroll Drock getest Edelstahl Apparat
Single Purification Kolonn:	5KG Däitsch BASF Deoxygenéierungsmaterial, fäeg fir Deoxygenatioun vu 60L5KG amerikanescht UOP héicheffizient absorbéierend Material, fäeg 2kg Waasser ze läschen
Reinigungsventil:	Voll automatesch elektresch bedriwwe Ventil mat modulare Design
Filter:	Héich Effizienz Filter mat engem 0.3 Mikron Aperturfilterbildschierm deen den HEPA Standarden entsprécht
5. Regeneratiounssystem
Benotzt fir d'Wiederverwendung vu Reinigungssystemer fir se ze aktivéieren; Regeneratioun erfuerdert eng Mëschung aus N2/H2 oder Ar/H2 Gasen, mat H2 fir 5-10%
6. Display System
D'Kontroll Eenheet adoptéiert en däitsche SIEMENS Touchscreen, an den Operatiounsmenü ass op Chinesesch / Englesch
7.Vakuum System
Automatesch pneumatic electroplating boardThe Vakuum Pompel adoptéiert Edwards RV12 Vakuum Pompel aus dem UK.Vacuum kann separat op d'Këscht an Iwwergank Chamber applizéiert ginn, an individuell Kontroll kann zu all Moment erreecht ginn (personaliséiert Projet).
8. Waasser / Sauerstoff Analysator
Waasser Analyser
Range:	0-1000 ppm
Feeler Range:	± 1% ppm
Ëmgéigend Temperatur:	-10 ℃ -50 ℃
Haaptsäit ：	PLC
Besonnesch fir Lithium Batterie Fabrikatioun a Metall organesch Benotzer, kann et gebotzt a weiderbenotzt ginn, vermeit de Problem vun enger eemoleger Verschmotzung a Schrott
Sauerstoff Analyser
Range:	0-1000 ppm
Feeler Range:	± 1% ppm
Ëmgéigend Temperatur:	-10 ℃ -50 ℃
Haaptsäit ：	PLC
D'Benotzung vun ZrO2 Sensoren vermeit de Problem vun enger kuerzer Liewensdauer an der Onméiglechkeet fir Loft an Brennstoffzellen ausgesat ze ginn